Ultrahydratační pleťová maska pro suchou pleť

Maska FOREO UFO™ H2Overdose 2.0 je navržena tak, aby poskytovala maximální hydrataci a obnovu suché pleti. Tato inovativní maska využívá sílu LED světla z přístroje UFO, které zahřívá pokožku a rozšiřuje póry pro lepší působení složek. Je vhodná pro osoby s velmi suchou nebo citlivou pletí, které potřebují rychlý efektivní způsob, jak obnovit hydrataci a zpevnit kožní bariéru.

• 91 % přírodních složek – kyselina hyaluronová, sněžná houba, ceramidy, vitamin E a B5 podporují hydrataci a zdraví pleti.
• Plyšový materiál Tencel – plně biologicky odbouratelný materiál zajišťuje lehký dotyk a umožňuje úplné nasycení složek do pokožky.
• Mořské řasy s vyšší absorpcí vlhkosti – oproti bavlně吸收uje více vlhkosti, což minimalizuje ztrátu cenných složek.

Tato maska se aplikuje jednoduše jako součást vašeho denního nebo týdenního pérovacího režimu. Získejte hladkou, plně nasycenou a odolnější pleť s každým použitím. Zkus si ji v rámci svého pérovacího režimu!